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高德英特公司鞠煥鑫博士“表面分析技術(shù)(XPS/UPS/LEIPS)特點及其在光電器件研究中的應(yīng)用”學(xué)術(shù)報告順利舉行

發(fā)布日期:2022年01月10日          作者:陳濤         編輯:沈立芹         審核:潘清川         點擊:[]

2021年12月28日下午,高德英特(北京)科技有限公司鞠煥鑫博士應(yīng)光伏院邀請,為師生做了題為“表面分析技術(shù)(XPS/UPS/LEIPS)特點及其在光電器件研究中的應(yīng)用”的學(xué)術(shù)報告。鞠煥鑫博士畢業(yè)于中國科學(xué)技術(shù)大學(xué),后在國家同步輻射實驗室從事博士后研究,研究領(lǐng)域為軟X射線譜學(xué)方法學(xué)研究以及能源材料/器件界面電子性質(zhì)研究,在Science, Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater等期刊發(fā)表學(xué)術(shù)論文百余篇;主持/參與國家自然科學(xué)基金委青年科學(xué)基金、大科學(xué)裝置聯(lián)合基金培育項目和重點項目、國家重點研發(fā)計劃等多個國家級科研項目,現(xiàn)任高德英特(北京)科技有限公司應(yīng)用專家,負(fù)責(zé)PHI CHINA南京表面分析實驗室的創(chuàng)建以及運行管理。

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                                      鞠煥鑫博士進(jìn)行報告

在本報告中,鞠煥鑫博士講述了能譜技術(shù)(XPS/UPS/LEIPS)的基本原理及其技術(shù)特點,重點講解了數(shù)據(jù)處理過程包括譜圖定量分析、化學(xué)態(tài)解析、譜圖擬合以及UPS譜圖分析能級排列等內(nèi)容,并結(jié)合光電器件中的研究事例介紹了表面分析技術(shù)在材料組分/化學(xué)態(tài)、深度分析以及能級電子結(jié)構(gòu)研究中的應(yīng)用。光電器件中界面相互作用以及界面電子結(jié)構(gòu)與器件性能之間構(gòu)效關(guān)系的研究,是指導(dǎo)構(gòu)建高效器件的重要研究內(nèi)容。基于能譜技術(shù)的多項表面分析技術(shù)(XPS /UPS/LEIPS),可以提供包括芯能級、價帶和導(dǎo)帶的全面電子結(jié)構(gòu)信息,同時結(jié)合多種濺射離子源實現(xiàn)對無機材料以及有機材料進(jìn)行逐層解析的深度分析,將為光電器件表界面構(gòu)效關(guān)系的研究提供強有力的技術(shù)支持。

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                                      光伏院研究生聆聽報告

講座最后進(jìn)行了現(xiàn)場答疑環(huán)節(jié),我院研究生積極提問,鞠博士逐一解答。此次學(xué)術(shù)講座,使同學(xué)們對表面分析技術(shù)在光伏領(lǐng)域的應(yīng)用有了更深入的認(rèn)識,豐富了同學(xué)們的科研手段,為同學(xué)們今后的科學(xué)研究提供了幫助。

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